SK하이닉스 임원이 국제행사에서 극자외선(EUV)기술로 메모리반도체를 양산하는 방안에 관해 발표한다.

7일 극자외선기술 전문기관 EUVL에 따르면 EUVL이 10일까지 온라인으로 개최하는 ‘2021 EUVL 워크숍’에 임창문 SK하이닉스 EUV Litho PJT 연구위원이 기조연설을 한다.
 
임 연구위원은 연설 요약문에서 “메모리반도체기업들은 오래 전부터 EUV기술을 대량생산에 활용하기 위해 많은 노력을 기울였다”며 “이번 발표에서는 논리 반도체 및 파운드리(반도체 위탁생산)와 메모리반도체 분야 각각의 극자외선 적용점 차이, D램 양산에 관한 극자외선 기술의 현황과 잠재력 등을 다루겠다”고 말했다.

극자외선기술은 웨이퍼에 반도체 회로를 그리는 노광공정에서 파장이 짧은 극자외선을 활용해 기존보다 미세한 반도체 회로를 구현하는 기술을 말한다. 

애초 시스템반도체 쪽에서 많이 활용됐는데 최근에는 메모리반도체분야로 적용폭이 확대되고 있다. SK하이닉스는 올해부터 극자외선기술을 활용한 D램 양산을 추진한다.

임 연구위원은 1966년 6월 태어났다. 서울대 물리학부를 졸업한 뒤 한국과학기술원(카이스트)에서 물리학 박사학위를 받았다.

반도체 전문가로 극자외선 기술을 비롯한 반도체 노광기술과 관련해 논문 50여 편을 집필했다. 현재 SK하이닉스에서 약 30년째 일하고 있다. 

EUVL은 극자외선기술 전문가인 비벡 박시 미국 더블린대 물리학부 교수에 의해 2007년 설립됐다. 세계 기업과 연구기관에 극자외선 기술 관련 컨설팅과 교육을 제공한다.

이번 워크숍에는 인텔, 시놉시스, 램리서치, ASML, 미국 국립과학재단(NSF), 벨기에 반도체연구소 IMEC 등의 연구원들이 참가한다.

국내 반도체 미세공정 권위자로 알려진 안진호 한양대 신소재공학부 교수도 초청연사에 이름을 올렸다. 안 교수는 극자외선용 펠리클에 관해 발표한다. 펠리클은 웨이퍼에 반도체 회로를 그리는 데 쓰이는 포토마스크를 먼지로부터 보호하는 소재다. [비즈니스포스트 임한솔 기자]