삼성전자가 시스템반도체 투자규모를 대폭 늘린다.

삼성전자는 13일 평택캠퍼스에서 열린 ‘K-반도체벨트 전략 보고대회’에서 2030년까지 시스템반도체 투자규모를 기존 133조 원에서 171조 원으로 확대한다고 밝혔다.
 
2019년 4월 삼성전자가 ‘시스템반도체 비전 2030’을 제시하며 밝힌 투자액 133조 원에서 38조 원을 늘린 것이다.

삼성전자는 투자 확대를 통해 5G(5세대 이동통신), 인공지능(AI), 자율주행 등 미래 산업의 밑거름 역할을 수행하겠다는 비전을 내놨다.

국내 반도체생태계의 발전을 위한 지원도 더욱 늘리기로 했다.

삼성전자는 시스템반도체 생태계 육성을 위해 국내 팹리스(반도체 설계전문회사)를 대상으로 시제품 생산 지원과 협력사 기술교육 등 상생활동을 확대한다는 계획을 세웠다.

반도체 인재 육성을 위해 소재·부품·장비회사는 물론이고 학계와도 협력을 강화하기로 했다.

김기남 삼성전자 DS부문 대표이사 부회장은 이날 행사에서 “지금 대한민국의 반도체산업은 거대한 분수령 위에 서 있다”며 “대격변을 겪는 지금이야말로 장기적 비전의 밑그림을 그려야 할 때다”고 말했다.

삼성전자는 평택 캠퍼스 3라인의 건설에도 본격 착수했다.

삼성전자 평택 캠퍼스 3라인은 2022년 하반기 완공이 예정돼 있다. 현존하는 최첨단 반도체기술이 적용된 팹(반도체 생산공장)으로 클린룸 규모가 축구장 25개 크기다.

삼성전자는 평택 3라인에서 극자외선(EUV)기술이 적용된 14나노 D램과 5나노 논리칩을 양산하기로 했다.

김 부회장은 “한국이 줄곧 선두를 지켜온 메모리분야에서도 추격이 거세다”며 “수성에 힘쓰기보다는 결코 따라올 수 없는 ‘초격차’를 벌리기 위해 삼성이 선제적 투자에 앞장서겠다”고 말했다. [비즈니스포스트 강용규 기자]