[비즈니스포스트] SK하이닉스의 반도체 핵심 기술을 중국에 유출했으며, 삼성전자 자회사 '세메스'의 장비 도면을 빼돌린 혐의로 기소된 협력사 부사장에게 실형이 확정됐다.

대법원은 12일 산업기술보호법 위반과 부정경쟁방지법 위반 혐의로 재판에 넘겨진 SK하이닉스 협력사 부사장 A씨에게 징역 1년6개월을 선고한 원심을 유지한다고 판결했다.
 

이외에 연구소장을 포함해 기술 유출에 가담한 직원 3명 역시 징역 1년에서 1년6개월의 실형이 선고됐다. 다른 직원 한 명은 징역 8개월과 집행유예 2년이 확정됐다.

이들은 SK하이닉스와 협력하며 알게 된 반도체 세정 기술과 하이케이메탈게이트(HKMG) 제조 기술 등 반도체 관련 핵심 기술과 영업 비밀을 2018년 중국 반도체 업체에 유출했다.

특히 HKMG는 누설 전류를 막과 정전용량을 개선하는 등 첨단 반도체 제작에 필요한 핵심 기술이다. D램 메모리반도체 속도를 높이며 전력 소모를 줄일 수 있다.

이들은 삼성전자의 반도체 장비 자회사인 세메스 전직 직원들을 통해 취득한 세정장비 도면 등 반도체 영업 비밀을 활용해 중국 수출용 장비를 개발한 혐의도 받았다. 

기술을 유출한 행위자와 해당 법인을 함께 처벌한다는 양벌규정에 따라, 해당 SK하이닉스 협럭 업체에도 벌금 10억 원이 선고됐다. 김호현 기자