삼성전자가 1분기에 반도체 관련 시설투자 규모를 대폭 늘렸다.

17일 삼성전자 분기보고서에 따르면 1분기 반도체와 디스플레이 등의 시설투자에 모두 9조7138억 원을 투입했다.
 

지난해 같은 기간과 비교해 전체 시설투자 규모가 33.1% 증가했다.

반도체부문만 보면 투자규모는 더 큰 폭으로 늘었다.

삼성전자는 2020년 1분기 반도체 증설 등에 6조447억 원을 사용했는데 올해는 8조4828억 원을 투입했다. 1년 만에 시설투자비용이 40.3% 늘었다.

반면 디스플레이부문 투자는 8336억 원에서 7395억 원으로 감소했다.

이에 따라 전체 시설투자 가운데 반도체부문 비중은 82.8%에서 87.3%로 확대됐다.

삼성전자가 최근 파운드리(반도체 위탁생산) 등 시스템반도체 관련 투자에 속도를 내면서 반도체시설 투자규모가 늘어난 것으로 보인다.

삼성전자는 2030년까지 시스템반도체 투자규모를 기존 133조 원에서 171조 원으로 확대한다고 13일 밝혔다.

2022년 완공되는 평택사업장 3라인에서 극자외선(EUV)기술이 적용된 14나노급 D램과 5나노급 논리칩을 양산하기로 했다. [비즈니스포스트 임한솔 기자]