SK하이닉스가 극자외선(EUV)장비를 기반으로 메모리반도체 원가를 절감할 수 있을 것으로 전망됐다.

도현우 NH투자증권 연구원은 25일 “SK하이닉스는 이천사업장 M16공장에서 10나노급 초반대(1α) D램에 극자외선 노광공정을 적용해 2021년 후반부터 제품을 생산할 계획을 세웠다”며 “D램 일부 공정에 극자외선을 적용했을 때 이론적으로 원가를 20% 수준으로 절감할 수 있다”고 밝혔다.
 
SK하이닉스는 네덜란드 반도체장비기업 ASML과 4조7500억 원 규모의 극자외선 장비 구매계약을 맺었다고 24일 공시했다.

극자외선 장비는 기존 광원보다 파장이 짧은 극자외선을 이용해 더 미세한 반도체회로를 구현하는 데 쓰인다. 반도체는 회로가 미세해질수록 전력 효율과 성능이 개선된다.

극자외선 장비 가격은 대당 2천억 원 수준으로 알려졌지만 SK하이닉스는 그에 필요한 충분한 자금을 보유하고 있는 것으로 분석됐다.

김경민 하나금융투자 연구원은 “SK하이닉스는 앞으로 5년 동안 극자외선 장비를 취득할 때마다 4조7500억 원을 분할해 지불한다”며 “SK하이닉스의 이자·세금·감가상각비·무형자산상각비 차감전이익(EBITDA)은 최근 6개월 동안 7조 원을 상회한다”고 말했다.

극자외선 장비는 그동안 시스템반도체에만 적용됐지만 최근 D램 등 메모리반도체 쪽으로 적용범위가 넓어지고 있다.

SK하이닉스가 극자외선장비를 활용해 D램 생산을 시작함에 따라 앞으로 장비 확보 경쟁이 더욱 치열해질 것으로 전망된다.

현재 극자외선장비는 ASML이 독점적으로 생산한다. ASML은 삼성전자, 대만 TSMC, 인텔 등을 고객사로 두고 있다. [비즈니스포스트 임한솔 기자]